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    2. GK-120
      GK-120
      全自動曝光機
      全自動設計,滿足一次可放置4個輸入料盒和4個輸出料盒;
      雙工位轉盤設計,滿足曝光和對準上片同時進行
      具備自適應調平功能
      通過氣壓控制掩膜板與芯片的貼合壓力
      自動快捷地定位芯片圓心、定位芯片切邊
      機型說明

      該機型可按照二極管芯片廠家需求定制,滿足4、5、6英寸Wafer的一次曝光

      應用領域
      晶圓片接觸式曝光
      產品特點
      全自動芯片曝光
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